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Cenário de aplicação de unidades criogênicas de separação de ar:
Indústria Eletrônica e Semicondutores
A planta de separação criogênica do ar desempenha um papel vital na indústria eletrônica e de semicondutores, particularmente na produção de nitrogênio e oxigênio de alta pureza.Neste cenário de aplicação, a planta de oxigênio/nitrogênio/árgônio é empregada para separar o ar atmosférico em seus componentes primários usando destilação criogênica.O nitrogênio e o oxigênio resultantes são ainda purificados para atingir os níveis de pureza exigidos pela indústria eletrônica.O nitrogênio de alta pureza é utilizado para diversas aplicações, incluindo inertização, purga e como gás de arraste na produção de componentes eletrônicos.O oxigênio, por outro lado, é empregado em processos de oxidação, dopagem em fase gasosa e como fonte de espécies reativas de oxigênio na fabricação de semicondutores.A capacidade da planta de separação criogênica de ar de fornecer gases de alta pureza com baixos níveis de impurezas garante a confiabilidade e a qualidade dos processos de produção de eletrônicos e semicondutores.
Unidade de separação de ar de tamanho médio e grande com folha de dados de argônio | ||||||
Modelo | Capacidade de produção | Pureza ou Impureza da Produção | ||||
Oxigênio | Azoto | Argônio | Oxigênio | Azoto | Argônio | |
KDONAr-3200/6400/100 | 3200 | 6400 | 100 | 99.6 | ≤10 | ≤1,5PPM O2+3PPM N2 |
KDONAr-6000/12000/180 | 6000 | 12000 | 180 | 99.6 | ≤10 | ≤1,5PPM O2+3PPM N2 |
KDONAr-10000/20000/330 | 10000 | 20000 | 330 | 99.6 | ≤10 | ≤1,5PPM O2+3PPM N2 |
KDONAr-20000/40000/650 | 20000 | 40000 | 650 | 99.6 | ≤10 | ≤1,5PPM O2+3PPM N2 |
KDONAr-40000/80000/1200 | 40000 | 80000 | 1200 | 99.6 | ≤10 | ≤1,5PPM O2+3PPM N2 |
KDONAr-80000/130000/2400 | 80000 | 130000 | 2400 | 99.6 | ≤10 | ≤1,5PPM O2+3PPM N2 |